紫外光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)包括：支撐基板的尺寸范圍、分辨率、對(duì)位精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。

　　

　　1、分辨率是描述光刻可以達(dá)到的最細(xì)線精度的一種方式。光刻機(jī)的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝的限制。

　　

　　2、對(duì)準(zhǔn)精度是多層曝光時(shí)層間圖案的定位精度。

　　

　　3、曝光方式分為接觸接近、投影和直寫(xiě)。

　　

　　4、曝光光源的波長(zhǎng)分為紫外區(qū)、深紫外區(qū)和極紫外區(qū)。光源包括汞燈、準(zhǔn)分子激光器等。

　　

　　紫外光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米技術(shù)。重要的技術(shù)在于以下兩個(gè)方面：掩模晶圓對(duì)準(zhǔn)，以及將掩模上的圖案復(fù)制到晶圓上，為下一步或離子注入工藝做準(zhǔn)備。曝光方式采用壓力可調(diào)的接觸曝光，有效降低了光刻膠對(duì)掩模版的污染和掩模版的磨損，提高了掩模版的使用壽命。因此，曝光機(jī)/光刻系統(tǒng)以其高性?xún)r(jià)比令人印象深刻。

　　

　　紫外光刻機(jī)高分辨率光刻，光燒蝕/光解/光催化工藝，表面能改性，臭氧產(chǎn)生，低損傷原子表面清潔，增強(qiáng)薄膜附著力，高功率平面真空紫外光為光處理提供了新的可能性。大功率弧光燈的革命性使用具有出色的均勻性和通用性，高效緊湊的模塊化設(shè)計(jì)，這些都是在172nm光源上實(shí)現(xiàn)的。此外，還創(chuàng)造性地推出了真空紫外線處理系統(tǒng)。